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第1091章 要站在国家的层面考虑问题（第2页）

“你觉得咱们国内给足了支持之后，多久能达到国际一流水平？”

大家也都知道，一下子成为国际顶尖不太现实，毕竟别人发展的更早，有技术壁垒，而且别人也在进步，可不会停下来等你。

张恪清很保守的说道：“十年内能达到国际一流，但国际顶尖，可能要二十年，甚至更久。”

唐文忠眉头紧锁：“你也不看好咱们得技术发展速度？”

“十年前国内许多高校就开始了相关的人才培养，国家也建立了不少的实验室，许多高校和研究所都开展了相关的技术研究，我们追赶的速度很快。”

“现在加大了扶持力度，而且也招揽了更多在国外培养的人才回来，还要这么长时间才能达到一流？距离顶尖更差距二十年？”

记得恪清对国内的发展速度一直是很乐观的，怎么到了这个行业，就如此悲观？

张恪清坦言道：“爸，不是我不看好技术发展的速度，而是我们在这行缺少的技术太多了，尤其是许多比较容易的路线都已经被其他企业研发完毕，申请了专利。”

“单说一个光刻机，目前全球只有阿斯麦公司能够生产EUV光刻机，这家公司所采用的技术是集合了数个国家的多家企业融合而成，也是芯片工艺制程突破7纳米的关键，因为现在的DUV光刻机理论上的极限就是7纳米。”

“这个光刻机不卖，那么我们就会被卡在7纳米的工艺上，哪怕是其他技术增加的再多，也难以突破。”

“当然也许未来会有一些其他的技术，但成本和良品率方面肯定比不上使用EUV光刻机。”

他记得前世霓虹那边的佳能公司研发了一种纳米压印技术，可以用来生产5纳米的芯片，打破了没有EUV光刻机就无法生产7纳米以下芯片的结论。

可成本很高，良品率也无法控制，并且别人本来就是光学领域的巨头企业。

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“所以即使十年后我们研发成功了EUV光刻机，或者是绕开这个的技术，短时间内成本等也远无法跟世界顶尖的相比，而其他顶尖企业的技术储备我们也只能望其项背。”

至少在张恪清重生之前，国内还被卡着脖子，只能生产7纳米的芯片。

但实验室里是否有7纳米以下的理论技术，张恪清不清楚，但他相信会有其他的路。

而且其实到了7纳米之后，对国防来说已经足够用了，许多设备可以扩大化，组合化，以此来提升性能。

有人说国内一旦有了EUV光刻机，可以在五年内追上世界顶尖，那也只是理论上的，实际上其中还有许多技术专利的封锁，其中最多的就是积电公司，然后才是四星、英特尔等企业。

现在别说是EUV光刻机，就算是先进的DUV光刻机，国内企业也不容易买到。

最主要的是这个设备太大，重达十几吨，想悄无声息的弄回来都做不到。

唐文忠听完张恪清的话，不但没有任何的灰心，反而态度更加坚定。

“既然如此，那我们就更应该尽全力，提升我们的基础技术，将来打破技术垄断，不再受制于人！”

“为了实现这个目标，暂时的牺牲是值得的，而且政策制定之后，也许不需要十年，我们就能成为国际一流。”

张恪清抬起头，还有什么是他不知道的消息吗？

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